GB/T 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法.pdf
SJ/T 11487-2015 半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法.pdf
书犐犆犛29.045犎82�����������犌犅/犜5238—2019��GB/T5238—2009��������犕狅狀狅犮...
书犐犆犛29.045犎80�����������犌犅/犜16595—2019��GB/T16595—1996��������犛狆犲...
ICS31.260CCSL97中华人民共和国国家标准GB/T44631—2024晶片承载器传输并行接口要求RequirementsforwafercarrierhandoffparallelI/Ointerfa...
ICS77.040.99H17中华人民共和国国家标准GB/T26070—2010化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法Characterizationofsubsurface...
书犐犆犛77.040犎25�����������犌犅/犜34481—2017��������������(犈犘犇)�����犜犲狊...
书����������������������������������������������������������������...
ICS77.040CCSH21中华人民共和国国家标准GB/T24578—2024代替GB/T24578—2015,GB/T34504—2017半导体晶片表面金属沾污的测定全反射X射线荧光...
ICS29.045H83中华人民共和国国家标准GB/T30866—2014碳化硅单晶片直径测试方法Testmethodformeasuringdiameterofmonocrystallinesiliconcar...
ICS29.045H83中华人民共和国国家标准GB/T30867—2014碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法Testmethodformeasuringthicknessandtotalthickn...
ICS31.160L21中华人民共和国国家标准GB/T32988—2016人造石英光学低通滤波器晶片Syntheticquartzcrystalwaferforopticallowpassfilter(OLPF...
GBT 6616-2023 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法(1).pdf
晶片加工人员劳动合同甲方:______________________地址:__邮码:__电话:__________________________法定代表人或委托代表人:__________...